www.17c嫩嫩草色在线科學告訴你：光電直讀光譜儀的誤差（chà）如何避免（miǎn）

光（guāng）電直讀光譜儀（yí）雖然（rán）本身測量（liàng）準確（què）度很高，但測定試樣中元素含量時， 所得結果與真實含量通（tōng）常不（bú）一致，存在一定（dìng）誤（wù）差，並且受諸多因（yīn）素的影響（xiǎng），有的材料本（běn）身含量就很低。下麵就誤差的種類（lèi）、來源及如何避免誤差進行分析。

根（gēn）據誤（wù）差的性質及產生原因， 誤差可分為下麵（miàn）幾種：

1.係統誤差的（de）來源

(1)標樣和（hé）試樣中的含量和化學組成（chéng）不完全相同時，可能引起基（jī）體（tǐ）線和分（fèn）析線的強度改變，從而引入誤差。

(2)標樣和試樣的物理性能不完全相（xiàng）同時，激發的特征譜線會有差別從而產生係（xì）統誤差。

(3)澆注（zhù）狀態的鋼樣與經過退火、淬（cuì）火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數據（jù）會有所差別。

(4)未知元素譜線的重疊幹擾（rǎo）。如熔煉過程中加（jiā）入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入係統誤差（chà）。

(5)要消除係（xì）統誤差，必須（xū）嚴格按照標準樣品（pǐn）製備規定要求。為了檢查係統誤差，就需要（yào）采用化學分析方法分析多次校對結果。

2.偶然誤差的來源

與樣品成分不均勻有關的誤差。因（yīn）為光電光譜分析所消耗（hào）的樣品很少，樣品中元素分布的不（bú）均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產生（shēng）偶然誤差。主要原因如下：

(1)熔煉過程（chéng）中帶入（rù）夾（jiá）雜物，產（chǎn）生的偏析等造成（chéng）樣品元素（sù）分布不均。

(2)試樣的缺陷、氣孔、裂（liè）紋（wén）、砂眼等（děng）。

(3)磨樣紋路交叉、試樣（yàng）研（yán）磨過熱、試樣（yàng）磨麵放置時間（jiān）太長和壓上指紋等因素。

(4)要減少（shǎo）偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重（chóng）複多（duō）次分析來降低分析誤差。

（火花直讀光譜儀）

3.其他因素誤差

(1)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使（shǐ）激（jī）發斑點變壞。如果氬氣（qì）管（guǎn）道與電極架有汙染物排不出去，分析結果會（huì）變差。

(2)室內溫度的升高會增加光電（diàn）倍增管的暗電流，降低信噪比（bǐ）。濕度大容易導致高壓元件發生漏電、放電現象，使分析結果不穩定。

如何避免誤差：

(1)試樣（yàng）表麵要平整，當試樣放在電極架上時，不能有漏氣現象。如有漏氣，激發時聲音不正常。

(2)樣品與控製（zhì）標（biāo）樣的磨紋粗細要一致，不能有交叉紋，磨樣用力不要過大，而且用力要均勻，用力過大（dà），容易造（zào）成試（shì）樣（yàng）表（biǎo）麵氧化。

(3)對高鎳鉻鋼磨樣時，要使用新砂輪片磨樣，磨紋操作要求更嚴格。

(4)試樣不能有偏析、裂紋、氣孔等缺陷，試樣要有一定的代表性。

(5)電極的頂尖應具有一定角度，使光軸不（bú）偏離中心，放電間隙應保持不（bú）變，否則聚焦在分光（guāng）儀的譜線強度會改變。多次重複放電以後，電極會長尖，改變（biàn）了放電間隙。激發產生的金屬蒸氣也會汙（wū）染電極。所以必須激發一次後就用刷子清理電極。

(6)透鏡內表麵常（cháng）常受到來自真空泵油蒸氣的汙染，外表麵受到分析時產生金（jīn）屬蒸氣的（de）附著，使透過率明顯降低，對波（bō）長（zhǎng）小於200nm的（de）碳、硫（liú）、磷譜線（xiàn）的透過率影響更顯著，所以聚光鏡要進行定期清（qīng）理。

(7)真空度不（bú）夠高會降低分析（xī）靈敏度， 特別是波長（zhǎng）小於200nm的元素更明顯， 為此要求真空度達（dá）0.05mmHg。

(8)出射狹縫的位置變化受溫度（dù）的（de）影（yǐng）響大，因此保持分光室（shì）內恒溫30℃很重要，還要求室內溫度保持一致，使出射狹縫不偏離正常。